小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。  
我们用此设备得到择**取向的ZnO薄膜  
技术参数  
输入电源  
220VAC50/60Hz,单相  
800W(包括真空泵）  
等离子源  
一个100W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内  
配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）  
可选配300W射频电源（自动匹配）  
注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间。  
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磁控溅射头  
一个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接  
靶材尺寸:直径为25.4mm,zui大厚度3mm  
一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）  
溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）  
同时可选配2英寸溅射头  
选配2英寸溅射头靶材尺寸：直径为50.8mm，zui大厚度6mm  
真空腔体  
真空腔体：160mmODx150mmIDx250mmH，采用高纯石英制作  
密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封  
一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体  
真空度：<1.0*10-2Torr（采用双极旋片真空泵）  
<5*10-5torr（采涡旋分子泵）  
载样台  
载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热  
载样台尺寸：直径50mm（zui大可放置2英寸的基片）  
旋转速度：1-20rpm  
样品台的zui高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃  
控温精度+/-10℃
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