伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
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型号 |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>600 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
14 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
24.6 cm |
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直径 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
磁控溅射是物理气相沉积技术中一种手段比较丰富的方法, 可以通过控制调节镀膜参数, 得到更加致密, 均匀, 结合力出色的膜层, 而且磁控溅射属于干法镀膜, 不存在电镀化学镀中的镀液腐蚀基体和废液污染问题, 从环境保护的角度来看, 磁控溅射较电镀化学镀更加绿色环保.
在钕铁硼(NdFeB)磁体表面利用磁控溅射沉积不同锰含量的铝锰合金薄膜. 磁控溅射制备的铝锰合金薄膜表面光滑致密. 薄膜结构受到锰含量的影响, 当薄膜锰含量从6.80at%上升到25.78at%时, 薄膜结构由晶态逐渐转变为非晶态, 达到 35.67%时, 薄膜中析出金属间化合物Al8Mn5. 铝锰合金薄膜的耐腐蚀性能受薄膜成分变化的影响很大, 当薄膜中锰含量达到25.78% 时, 此时薄膜呈非晶态结构, 薄膜的自腐蚀电流密度达到 1.198×10-7A/cm2, 比钕铁硼基体降低了 2 个数量级,耐腐蚀性能**好.
KRI 离子源的**特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
KRI 离子源是**域公认的**导者, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品**的指定代理商.
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