上海某大学实验室采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 , 通入氩气和氮气, 在流量比分别为 25/10、25/20、25/25、25/30 ((mL/min)/(mL/min))条件下制备 NGZO 薄膜.
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
|
型号 |
RFICP140 |
|
Discharge |
RFICP 射频 |
|
离子束流 |
>600 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
14 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
5-30 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
24.6 cm |
|
直径 |
24.6 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
实验室通过 XRD 和 SEM 对薄膜的物相结构和表面形貌进行分析,通过紫外可见分光光度计和霍尔效应测试仪对薄膜透过率和载流