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KRI考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积 BCx 薄膜

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品牌: KRI
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所在地: 上海
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最后更新: 2023-07-20 16:58
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伯东企业(上海)有限公司
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兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源溅射碳化硼靶和石墨靶(纯度均为99.9%, CrMoAl 齿轮钢和 Si100)表面沉积 BCx 薄膜

 

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号

RFICP140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

试验结论:

相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能当石墨靶电流为 2.4A , BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右且具有**佳的耐磨性能。

 

KRI 离子源的**特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

KRI 离子源是**域公认的**导者已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品**的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论请参考以下联络方式:

上海伯东罗**生                               台湾伯东王女士
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